Fábrica de wafer de semicondutores de Xangai: Transmissores de pressão/pressão diferencial E+H protegem microambientes de salas limpas

Uma instalação de fabrico de wafers de 12 polegadas requer a manutenção de uma pressão micro-diferencial de 5 ‰ 10 Pa nas zonas de sala limpa 1 ‰ 3 para evitar a contaminação cruzada.Os sistemas de gases de escape ácidos e alcalinos operam sob condições de corrosão elevada, condições de alta pressão negativa.

• Exigem uma precisão extremamente elevada para a pressão micro-diferencial (5 Pa), tornando instáveis os instrumentos convencionais;
• Forte corrosão dos gases de escape ácidos e alcalinos, levando a perfuração e fugas do diafragma;
• Grandes flutuações na pressão negativa do ducto, causando frequentes surtos de ventoinha e alarmes.

• Transmissor de pressão diferencial PMD75B de barra delta (para controlo de micro-pressão em salas limpas, precisão ± 0,035%);
• Cerabar PMP55B (com material Hastelloy C276) (para aplicações de gases de escape ácidos e alcalinos).

• A pressão micro-diferencial da sala limpa deve ser mantida dentro de ±1 Pa, com zero incidentes de contaminação cruzada durante todo o ano;
• Os diafragmas Hastelloy C276 não apresentaram corrosão após 18 meses de funcionamento contínuo em ambientes de exaustão com pH 1·14;
• Uma saída de dados estável dentro de ± 10 Pa, alarme automático acionado acima de 50 Pa, eliminando o aumento e desligamento do ventilador;
• Um total de 4.200 unidades foram implantadas em todo o projeto, estabelecendo uma referência na indústria chinesa de semicondutores.